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集成電路、半導体、晶元

一種在半導體處理裝置中處理被處理基板的方法,在處理容器內一邊將第一基板的溫度控制在處理溫度上一邊將處理氣體供給所述處理容器內,對所述第一基板進行半導體處理。 在所述半導體處理中,在所述處理容器的內面上形成副產物膜。在所述半導體處理後並且從所述處理容器取出所述第一基板 後,將改質氣體供給所述處理容器內,對所述副產物膜進行改質處理。所述改質處理是以降低所述副產物膜的熱反射性的模式進行設定的。 在所述改質處理後,在所述處理容器內一邊將第二基板的溫度控制在所述處理溫度上一邊將所述處理氣體供給所述處理容器內,對所述第二基板進行所述半導體處理。

一種在半導體處理裝置中處理被處理基板的方法,其特徵在於︰它具備, 在處理容器內一邊將第一基板的溫度控制在處理溫度上一邊將處理氣體供給所述處理容器內,對所述第一基板進行半導體處理的工序,在所述半導體處理中,在所述處理容器的內面上形成副產物膜; 在所述半導體處理後,並且從所述處理容器取出所述第一基板後,將改質氣體供給所述處理容器內,對所述副產物膜進行改質處理的工序,所述改質處理是以降低所述副產物膜的熱反射性的模式進行設定的;和 在所述改質處理後,在所述處理容器內一邊將第二基板的溫度控制在所述處理溫度上一邊將所述處理氣體供給所述處理容器內,對所述第二基板進行所述半導體處理的工序。


廢墨水厘

墨水盒的主要成份包括塑料、金屬、剩餘墨水和海綿,其中剩餘的墨水最難收集,其次為海绵體,由於廢墨盒的環保處理成本很大,資源回收率很低,在設計分解過程中最好使用自動機械化分解,因為只有難加工的塑料和極少量的金屬,在此分解中要有一定的數量方可進行。

當分解出來所得的廢墨水通常由溶劑、着色劑、表面活性劑、PH調節劑、催干劑以及其它必要的添加劑組成,着色劑一般是水溶性染料和顏料,PH調節劑通常有氨水、三甲氨、三乙醇氨,硫酸鹽等。根據以上的成份可用化學反應使之大部分生成沉淀,再經過廢墨水污水處理系統得出來的剩餘墨渣加工成固態待後處理。


廢碳粉盒

碳粉盒絕大部分的鼓主要成份包括塑料、金屬、剩餘廢碳粉主要是剩餘的廢粉最難處理,根據廢粉的主要成份是樹脂、碳黑、氧化铁、潤滑劑等組成,根據它們的性质設計一間由一個大型而專業的吸塵分解車間,防止廢粉外散,主要由吸塵器,磁网多個,清洗間,污水處理糸統。這樣分解出來的塑料、鐵、鋁可送往金屬加工廠處理,達到資源利用,而廢粉可在收集時有少量的可加工成低質量碳粉再次利用,其它廢粉可加温變成固態,待後再利用。